半導体排ガス処理システム市場2025年（世界主要地域と日本市場規模を掲載）：燃焼洗浄式、乾式、触媒式、湿式、プラズマ湿式、その他

半導体排ガス処理システムは、半導体製造プロセスにおいて発生する有害な排ガスを安全に処理するための装置や技術の総称です。半導体産業は、電子機器やデバイスの製造に不可欠な分野であり、その過程では多くの化学物質や有害物質が使用されます。これらの排ガスは環境や人間の健康に危険を及ぼすため、適切な処理が求められます。

半導体排ガス処理システムの主な目的は、有害な排ガスを効果的に除去し、環境基準に適合させることです。このシステムは、特にフッ化物や揮発性有機化合物（VOC）、窒素酸化物（NOx）など、危険度の高い物質を対象としています。これらの物質は、地球温暖化や大気汚染の原因となるため、しっかりとした処理が行われなければなりません。

半導体排ガス処理システムの種類は多岐に渡ります。主な種類として、吸着装置、酸化処理装置、洗浄装置、冷却装置などがあります。吸着装置は、活性炭やゼオライトなどの素材を使用して、排ガス中の有害物質を吸着して除去します。一方、酸化処理装置は、高温で有害物質を酸化し、無害化する技術です。洗浄装置は、化学薬品や水を使用して排ガス中の物質を化学反応で中和する役割を果たします。冷却装置は、排ガスを冷却し、温度を下げて処理を容易にする機能を持っています。

これらのシステムは、様々な用途に適応されます。半導体製造工程では、化学蒸着、エッチング、リソグラフィなど、多くの工程で有害な排ガスが発生します。そのため、これらの工程に沿った適切な排ガス処理が必要です。特に、微細化が進む半導体チップの製造においては、要求される純度や安全性が非常に高くなり、処理技術も進化しています。

関連技術としては、半導体製造自体のプロセス技術、環境工学、化学工学などが挙げられます。特に、デバイスのミニチュア化が進む中で、新しい材料やプロセスが導入されると、それに伴って生成される排ガスの種類や特性も変化します。そのため、排ガス処理技術も常に進化し続ける必要があります。近年では、AIやIoT技術を活用した監視・制御システムも加わり、より効率的でスマートな排ガス処理が実現されています。

半導体排ガス処理システムは、環境保護の観点からも非常に重要な役割を果たします。気候変動や大気汚染が深刻な問題となる中で、このシステムを通じて、持続可能な製造プロセスを促進することが求められています。また、企業は環境規制の遵守だけでなく、社会的責任としても、よりクリーンな製造プロセスを追求しています。

このように、半導体排ガス処理システムは、半導体産業において欠かせないものであり、その発展は環境保護や持続可能な社会の実現に寄与しています。今後も、その技術やシステムは進化し、より効率的かつ効果的な排ガス処理が求められることでしょう。これによって、半導体製造が環境に優しい産業として成り立つことが期待されています。

世界の半導体減圧装置市場規模は2024年に10億600万米ドルであり、2025年から2031年の予測期間中に年平均成長率（CAGR）10.8％で推移し、2031年までに20億4400万米ドルに拡大すると予測されている。 2025年までに、米国関税政策の変遷は世界経済情勢に大きな不確実性をもたらす見込みである。本報告書は最新の米国関税措置と世界各国の対応政策を分析し、半導体排ガス処理システム市場の競争力、地域経済パフォーマンス、サプライチェーン構成への影響を評価する。
半導体産業では、有毒・可燃性であり環境だけでなく人体にも有害なガスが使用される。例えばマイクロチップ製造において。国内法規に基づき、これらのガスは除去（アベイテーション）が義務付けられている。これは各ガスを許容濃度限界値（TLV）以下に低減することを意味する。ガス種ごとに熱処理・湿式処理、あるいは両技術の組み合わせなど異なる処理技術が必要となる。処理後の排ガスは大気中に放出可能であり、自然環境を損なわずにグリーンな世界を実現する。
半導体排ガス処理システムのグローバル主要企業には、荏原製作所、ブッシュ・バキューム・ソリューションズ、GST（グローバル・スタンダード・テクノロジー）、エドワーズ・バキューム、CSクリーンソリューションズなどがある。上位5社のシェアは60％を超える。欧州が最大の市場で、約24％のシェアを占める。製品タイプ別では燃焼洗浄式が最大セグメント（29％シェア）を占め、用途別ではIDM（垂直統合型半導体メーカー）が約50％のシェアを有する。
スマートフォン、タブレット、ノートパソコン、その他の電子機器に対する需要の急増が半導体製造の必要性を牽引している。生産が拡大するにつれ、排出ガス処理システムによる効果的な汚染対策が不可欠となる。人工知能（AI）、モノのインターネット（IoT）、自動車用電子機器、5G技術などの分野の成長が半導体の需要を加速させ、排出ガス処理システムの利用を増加させている。
世界の半導体排ガス処理システム市場は、企業別、地域別（国別）、タイプ別、用途別に戦略的にセグメント化されています。本レポートは、2020年から2031年までの地域別、タイプ別、用途別の売上高、収益、予測に関するデータ駆動型の洞察を通じて、ステークホルダーが新たな機会を活用し、製品戦略を最適化し、競合他社を凌駕することを可能にします。
市場セグメンテーション
企業別：
荏原
アトラスコプコ（エドワーズおよびCSKブランド）
GST（グローバルスタンダードテクノロジー）
上海盛建科技
ブッシュグループ
DAS環境エキスパート
CSクリーンソリューションズ
Kanken Techno
北京京益自動化設備
ユニセム
エコシス・アベイテーション
CECO環境
ハイバック
日本産氧（三菱化学）
アンギル環境システム
レゾナック（旧・昭和電工）
タイプ別：（主力セグメント対高マージン革新）
燃焼洗浄式
乾式タイプ
触媒式
湿式タイプ
プラズマ湿式タイプ
その他
用途別：（中核需要ドライバー対新興機会）
IDM
ファウンドリ
地域別
マクロ地域別分析：市場規模と成長予測
– 北米
– ヨーロッパ
– アジア太平洋
– 南米
– 中東・アフリカ
マイクロローカル市場の詳細分析：戦略的インサイト
– 競争環境：既存プレイヤーの優位性と新規参入者（例：欧州における荏原）
– 新興製品トレンド：燃焼洗浄式採用 vs ドライ式プレミアム化
– 需要側の動向：中国におけるIDM成長 vs 北米におけるファウンドリ潜在性
– 地域別消費者ニーズ：EUの規制障壁 vs. インドの価格感応度
重点市場：
北米
欧州
中国
日本
韓国
（追加地域はクライアントのニーズに基づきカスタマイズ可能です。）
章の構成
第1章：レポート範囲、エグゼクティブサマリー、市場進化シナリオ（短期/中期/長期）。
第2章：半導体排ガス処理システムの市場規模と成長可能性に関する定量分析（グローバル、地域、国レベル）。
第3章：メーカーの競争力ベンチマーク（収益、市場シェア、M&A、R&Dの重点分野）。
第4章：タイプ別セグメント分析 – ブルーオーシャン市場の発見（例：中国におけるドライタイプ）。
第5章：用途別セグメント分析－高成長のダウンストリーム機会（例：インドにおけるファウンドリ）。
第6章：企業別・タイプ別・用途別・顧客別の地域別売上高および収益内訳。
第7章：主要メーカー概要 – 財務状況、製品ポートフォリオ、戦略的展開。
第8章：市場動向 – 推進要因、抑制要因、規制の影響、リスク軽減戦略。
第9章：実践的な結論と戦略的提言。
本レポートの意義
一般的なグローバル市場レポートとは異なり、本調査はマクロレベルの業界動向とハイパーローカルな運用インテリジェンスを融合。半導体アベイテーションシステムバリューチェーン全体におけるデータ駆動型意思決定を支援し、以下に対応：
– 地域別の市場参入リスク／機会
– 現地慣行に基づく製品構成の最適化
– 分散型市場と統合型市場における競合他社の戦略

1 市場概要
1.1 半導体排ガス処理システムの製品範囲
1.2 半導体エミッション制御システムの種類別
1.2.1 タイプ別グローバル半導体排ガス処理システム売上高（2020年、2024年、2031年）
1.2.2 燃焼洗浄式
1.2.3 ドライ式
1.2.4 触媒式
1.2.5 湿式タイプ
1.2.6 プラズマ湿式タイプ
1.2.7 その他
1.3 用途別半導体排ガス処理システム
1.3.1 用途別グローバル半導体排出ガス処理システム売上高比較（2020年、2024年、2031年）
1.3.2 IDM
1.3.3 ファウンドリ
1.4 世界の半導体排ガス処理システム市場規模予測（2020-2031年）
1.4.1 世界の半導体排ガス処理システム市場規模（金額ベース）の成長率（2020-2031年）
1.4.2 数量ベース成長率における世界の半導体エミッション制御システム市場規模（2020-2031年）
1.4.3 世界の半導体排ガス処理システムの価格動向（2020-2031年）
1.5 仮定と制限事項
2 地域別市場規模と展望
2.1 地域別グローバル半導体排ガス処理システム市場規模：2020年 VS 2024年 VS 2031年
2.2 地域別グローバル半導体排ガス処理システム市場シナリオ（2020-2025）
2.2.1 地域別グローバル半導体排ガス処理システム販売市場シェア（2020-2025年）
2.2.2 地域別グローバル半導体排ガス処理システム収益市場シェア（2020-2025年）
2.3 地域別グローバル半導体排ガス処理システム市場予測（2026-2031年）
2.3.1 地域別グローバル半導体排ガス処理システム販売量予測（2026-2031年）
2.3.2 地域別グローバル半導体排ガス処理システム収益予測（2026-2031年）
2.4 主要地域および新興市場分析
2.4.1 北米半導体排ガス処理システム市場規模と展望（2020-2031年）
2.4.2 欧州半導体排ガス処理システム市場規模と展望（2020-2031年）
2.4.3 中国半導体排ガス処理システム市場規模と展望（2020-2031年）
2.4.4 日本の半導体排ガス処理システム市場規模と展望（2020-2031年）
2.4.5 韓国半導体排ガス処理システム市場規模と展望（2020-2031年）
3 タイプ別グローバル市場規模
3.1 タイプ別グローバル半導体排気処理システム市場の歴史的レビュー（2020-2025）
3.1.1 タイプ別グローバル半導体排ガス処理システム売上高（2020-2025年）
3.1.2 タイプ別グローバル半導体排ガス処理システム収益（2020-2025年）
3.1.3 タイプ別グローバル半導体排ガス処理システム価格（2020-2025年）
3.2 グローバル半導体排ガス処理システム市場：タイプ別予測（2026-2031年）
3.2.1 タイプ別グローバル半導体排ガス処理システム販売予測（2026-2031年）
3.2.2 タイプ別グローバル半導体排ガス処理システム収益予測（2026-2031年）
3.2.3 タイプ別グローバル半導体排ガス処理システム価格予測（2026-2031年）
3.3 各種半導体排ガス処理システムの代表的なプレイヤー
4 用途別グローバル市場規模
4.1 用途別グローバル半導体排ガス処理システム市場の歴史的レビュー（2020-2025年）
4.1.1 用途別グローバル半導体排ガス処理システム販売量（2020-2025年）
4.1.2 用途別グローバル半導体排ガス処理システム収益（2020-2025年）
4.1.3 用途別グローバル半導体排ガス処理システム価格（2020-2025年）
4.2 用途別グローバル半導体排ガス処理システム市場予測（2026-2031年）
4.2.1 用途別グローバル半導体排ガス処理システム販売予測（2026-2031年）
4.2.2 用途別グローバル半導体排ガス処理システム収益予測（2026-2031年）
4.2.3 用途別グローバル半導体排ガス処理システム価格予測（2026-2031年）
4.3 半導体排ガス処理システム用途における新たな成長源
5 主要企業別競争環境
5.1 主要企業別グローバル半導体排ガス処理システム販売量（2020-2025年）
5.2 収益別グローバル半導体排ガス処理システム主要企業（2020-2025年）
5.3 企業タイプ別（ティア1、ティア2、ティア3）および2024年時点の半導体排ガス処理システム収益に基づくグローバル市場シェア
5.4 企業別グローバル半導体排ガス処理システム平均価格（2020-2025年）
5.5 世界の半導体排ガス処理システムの主要メーカー、製造拠点及び本社所在地
5.6 半導体排ガス処理装置のグローバル主要メーカー、製品タイプ及び用途別
5.7 半導体排ガス処理装置のグローバル主要メーカー、業界参入時期
5.8 メーカーの合併・買収、拡張計画
6 地域別分析
6.1 北米市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.1.1 北米半導体排ガス処理システム企業別売上高
6.1.1.1 北米半導体排ガス処理システム企業別売上高（2020-2025年）
6.1.1.2 北米半導体排ガス処理システム企業別収益（2020-2025年）
6.1.2 北米半導体排ガス処理システム タイプ別売上高内訳（2020-2025年）
6.1.3 北米半導体排ガス処理システム 用途別売上高内訳（2020-2025年）
6.1.4 北米半導体排ガス処理システム主要顧客
6.1.5 北米市場の動向と機会
6.2 欧州市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.2.1 欧州半導体排ガス処理システム企業別売上高
6.2.1.1 欧州半導体排ガス処理システム企業別売上高（2020-2025年）
6.2.1.2 欧州半導体排ガス処理システム企業別収益（2020-2025年）
6.2.2 欧州半導体排ガス処理システム タイプ別売上高内訳（2020-2025年）
6.2.3 用途別欧州半導体排ガス処理システム販売額内訳（2020-2025年）
6.2.4 欧州半導体排ガス処理システム主要顧客
6.2.5 欧州市場の動向と機会
6.3 中国市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.3.1 中国半導体排ガス処理システム企業別売上高
6.3.1.1 中国半導体排ガス処理システム企業別売上高（2020-2025年）
6.3.1.2 中国半導体排ガス処理システム企業別収益（2020-2025年）
6.3.2 中国半導体排ガス処理システム タイプ別売上高内訳（2020-2025年）
6.3.3 中国半導体排ガス処理装置の用途別売上高内訳（2020-2025年）
6.3.4 中国半導体排ガス処理システム主要顧客
6.3.5 中国市場の動向と機会
6.4 日本市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.4.1 日本半導体排ガス処理装置の企業別売上高
6.4.1.1 日本半導体排ガス処理装置の企業別売上高（2020-2025年）
6.4.1.2 日本半導体排ガス処理システム企業別収益（2020-2025年）
6.4.2 日本半導体排ガス処理システム タイプ別売上高内訳（2020-2025年）
6.4.3 日本半導体排ガス処理装置の用途別売上高内訳（2020-2025年）
6.4.4 日本半導体排ガス処理装置の主要顧客
6.4.5 日本市場の動向と機会
6.5 韓国市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.5.1 韓国半導体排ガス処理装置の企業別売上高
6.5.1.1 韓国半導体排ガス処理装置の企業別売上高（2020-2025年）
6.5.1.2 韓国半導体排気処理システム企業別収益（2020-2025年）
6.5.2 韓国半導体排ガス処理システム売上高のタイプ別内訳（2020-2025年）
6.5.3 韓国半導体エージョンシステム 用途別売上高内訳（2020-2025年）
6.5.4 韓国半導体排ガス処理システム主要顧客
6.5.5 韓国市場の動向と機会
7 企業プロファイルと主要人物
7.1 荏原
7.1.1 荏原株式会社の概要
7.1.2 荏原の事業概要
7.1.3 荏原の半導体排ガス処理システムにおける売上高、収益、粗利益率（2020-2025年）
7.1.4 荏原が提供する半導体アブレーションシステム製品
7.1.5 荏原の最近の動向
7.2 アトラスコプコ（エドワーズおよびCSKブランド）
7.2.1 アトラスコプコ（エドワーズおよびCSKブランド）企業情報
7.2.2 アトラスコプコ（エドワーズおよびCSKブランド）事業概要
7.2.3 アトラスコプコ（エドワーズおよびCSKブランド）半導体アベイテーションシステム売上高、収益および粗利益率（2020-2025年）
7.2.4 アトラスコプコ（エドワーズおよびCSKブランド）半導体排ガス処理システム提供製品
7.2.5 アトラスコプコ（エドワーズおよびCSKブランド）の最近の動向
7.3 GST（グローバルスタンダードテクノロジー）
7.3.1 GST（グローバルスタンダードテクノロジー）会社情報
7.3.2 GST（グローバルスタンダードテクノロジー）事業概要
7.3.3 GST（グローバルスタンダードテクノロジー）半導体排ガス処理システム 売上高、収益、粗利益率（2020-2025年）
7.3.4 GST（グローバルスタンダードテクノロジー）半導体排ガス処理システム提供製品
7.3.5 GST（グローバルスタンダードテクノロジー）の最近の動向
7.4 上海盛建科技
7.4.1 上海盛建科技 会社情報
7.4.2 上海盛建科技の事業概要
7.4.3 上海盛建科技の半導体排ガス処理システムにおける売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.4.4 上海盛建科技が提供する半導体排ガス処理システム製品
7.4.5 上海盛建科技の最近の動向
7.5 ブッシュグループ
7.5.1 ブッシュ・グループ企業情報
7.5.2 ブッシュ・グループの事業概要
7.5.3 ブッシュ・グループの半導体排ガス処理システムにおける売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.5.4 ブッシュ・グループ 半導体排ガス処理システム 提供製品
7.5.5 ブッシュ・グループの最近の動向
7.6 DAS環境エキスパート
7.6.1 DAS環境エキスパート企業情報
7.6.2 DAS環境エキスパート事業概要
7.6.3 DAS Environmental Expert 半導体排ガス処理システム 売上高、収益、粗利益率（2020-2025年）
7.6.4 DAS Environmental Expert 半導体排ガス処理システム 提供製品
7.6.5 DAS Environmental Expert 最近の動向
7.7 CSクリーンソリューションズ
7.7.1 CSクリーンソリューションズ 会社情報
7.7.2 CSクリーンソリューションズ事業概要
7.7.3 CS Clean Solutions 半導体排ガス処理システム 売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.7.4 CSクリーンソリューションズ 半導体排ガス処理システム 提供製品
7.7.5 CSクリーンソリューションズの最近の動向
7.8 カンケンテクノ
7.8.1 ケンケンテクノ 会社概要
7.8.2 カンケンテクノの事業概要
7.8.3 ケンケンテクノの半導体排ガス処理システムにおける売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.8.4 カンケンテクノが提供する半導体排ガス処理システム製品
7.8.5 カンケンテクノの最近の動向
7.9 北京京益自動化設備
7.9.1 北京精益自動化設備株式会社の情報
7.9.2 北京精益自動化設備の事業概要
7.9.3 北京精益自動化設備の半導体減圧システムにおける売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.9.4 北京精益自動化設備が提供する半導体排ガス処理システム製品
7.9.5 北京精益自動化設備の最近の動向
7.10 ユニセム
7.10.1 ユニセム会社情報
7.10.2 ユニセム事業概要
7.10.3 ユニセム 半導体排気処理システム 売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.10.4 ユニセムが提供する半導体排ガス処理システム製品
7.10.5 ユニセム社の最近の動向
7.11 エコシス・アベイテーション
7.11.1 エコシス・アベイテーション企業情報
7.11.2 エコシス・アベイテーション事業概要
7.11.3 エコシス・アベイテメントの半導体アベイテメントシステム販売、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.11.4 エコシス・アベイテメントが提供する半導体アベイテメントシステム製品
7.11.5 エコシス・アベイテメントの最近の動向
7.12 CECO環境
7.12.1 CECO環境会社情報
7.12.2 CECO環境事業概要
7.12.3 CECO環境 半導体排ガス処理システム 売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.12.4 CECO環境が提供する半導体アベイテーションシステム製品
7.12.5 CECO Environmentalの最近の動向
7.13 ハイバック
7.13.1 ハイバック企業情報
7.13.2 ハイバック事業概要
7.13.3 ハイバックの半導体アベイテーションシステムにおける売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.13.4 ハイバックが提供する半導体アベイテーションシステム製品
7.13.5 ハイバックの最近の動向
7.14 日本産ガス（三菱化学）
7.14.1 日本産ガス（三菱化学）会社概要
7.14.2 日本ガス（三菱化学）事業概要
7.14.3 日本ガス（三菱化学）の半導体アブレーションシステムにおける売上高、収益、粗利益率（2020-2025年）
7.14.4 日本ガス（三菱化学）の半導体アブレーションシステム提供製品
7.14.5 日本ガス（三菱化学）の最近の動向
7.15 アンギル環境システムズ
7.15.1 アンギル環境システムズ 会社情報
7.15.2 アンギル環境システムズの事業概要
7.15.3 アンギル環境システムズ 半導体排ガス処理システム 売上高、収益、粗利益率（2020-2025年）
7.15.4 アンギル環境システムズ 半導体排ガス処理システム 提供製品
7.15.5 アンギル・エンバイロメンタル・システムズの最近の動向
7.16 レゾナック（旧・昭和電工）
7.16.1 レゾナック（旧・昭和電工）会社概要
7.16.2 レゾナック（旧・昭和電工）事業概要
7.16.3 レゾナック（旧・昭和電工）半導体排ガス処理システム 売上高・収益・粗利益率（2020-2025年）
7.16.4 レゾナック（旧・昭和電工）の半導体排ガス処理システム提供製品
7.16.5 レゾナック（旧・昭和電工）の最近の動向
8 半導体排ガス処理システムの製造コスト分析
8.1 半導体排ガス処理装置主要原材料分析
8.1.1 主要原材料
8.1.2 主要原材料サプライヤー
8.2 製造コスト構成における割合
8.3 半導体エージョンシステムの製造工程分析
8.4 半導体エージョンシステムの産業チェーン分析
9 マーケティングチャネル、販売代理店および顧客
9.1 販売チャネル
9.2 半導体エージョンテーションシステム販売代理店リスト
9.3 半導体排ガス処理システムの顧客
10 半導体減圧システムの市場動向
10.1 半導体処理装置業界の動向
10.2 半導体排ガス処理システム市場の推進要因
10.3 半導体排ガス処理システム市場の課題
10.4 半導体排ガス処理システム市場の抑制要因
11 研究結果と結論
12 付録
12.1 研究方法論
12.1.1 方法論／調査アプローチ
12.1.1.1 研究プログラム／設計
12.1.1.2 市場規模の推定
12.1.1.3 市場細分化とデータ三角測量
12.1.2 データソース
12.1.2.1 二次情報源
12.1.2.2 一次情報源
12.2 著者情報
12.3 免責事項