EUVフォトレジスト市場2025年（世界主要地域と日本市場規模を掲載）：EUV（化学系）、EUV（非化学系）

EUVフォトレジストは、極紫外線（EUV）露光技術を用いて半導体ウエハ上に微細なパターンを形成するための材料です。国際的に要求される半導体の小型化と高性能化の進展に伴い、EUV技術は次世代の半導体製造プロセスにおいて重要な役割を果たしています。EUVは波長が13.5nmと非常に短く、この波長を利用することで、従来の光学露光方式では達成不可能な高解像度を実現します。EUVフォトレジストは、この放射線に適応するよう設計されており、化学的な性質や光感受性を最適化しています。

EUVフォトレジストは大きく分けて、ネガ型とポジ型の2種類があります。ネガ型フォトレジストは、照射された部分が硬化し、未照射部分が溶解する特性を持っています。ポジ型フォトレジストはその逆で、照射された部分が溶解し、未照射部分が残る特性です。用途に応じて、どちらのタイプのフォトレジストも使用されており、それぞれ利点と欠点があります。

EUVフォトレジストの主な用途は、半導体素子のマイクロ加工です。特に、集積回路（IC）のパターン形成において、トランジスタや配線、メモリ素子などの構造を微細に再現するために使われています。これにより、高集積度の半導体チップが実現され、高速通信、データ処理、人工知能などの新しい技術への応用が可能になります。

また、EUV技術は、従来の光源に比べて非常に高い解像度を持つため、次世代の半導体製造に欠かせないものとなっています。特に、製造プロセスの効率性を向上させるために、EUVフォトレジストの開発にはさまざまな材料や化学反応が研究されています。これらの研究は、EUV光がフォトレジストに与える影響や、露光後の現象などに関連して進められています。

EUVフォトレジストの関連技術としては、レジストの塗布技術、露光装置、現像プロセスがあります。塗布技術は、均一な薄膜をウエハ上に形成するために重要であり、スピンコーティングやロールトゥロール技術が代表的です。また、露光装置は、EUV光源を用いて高精度でパターンを形成するための設備で、非常に高い真空環境が必要であり、複雑な光学系を持っています。現像プロセスは、露光後のフォトレジストを選択的に洗浄する工程であり、回路パターンを忠実に再現するための重要なステップです。

さらに、EUVフォトレジストの開発には、化学分野や物理分野からのイノベーションが寄与しています。例えば、耐熱性や感度、解像度を向上させるための新しい化合物の合成や、現像選択性を高めるための改良が行われています。また、ナノリソグラフィーや微細加工技術においても、EUVフォトレジストの進展が重要視されています。

今後、EUVフォトレジストはさらなる進化を遂げることが期待されています。特に、次世代の半導体製造においては、より高い解像度や製造コストの低減が求められています。それに応じて、EUVフォトレジストの性能も改良され、新たな材料や製品が開発されるでしょう。これにより、さらなる技術革新が進み、自動運転車や5G通信、量子コンピューティングといった新しい産業の発展にも寄与することになると考えられます。EUVフォトレジストは、未来の技術の基盤を支える重要な要素となっているのです。

世界のEUVフォトレジスト市場規模は2024年に1億7600万米ドルであり、2025年から2031年の予測期間中に年平均成長率（CAGR）24.2％で拡大し、2031年までに8億2200万米ドルに再調整される見込みである。 2025年までに、米国関税政策の変遷は世界経済情勢に大きな不確実性をもたらす見込みである。本報告書は最新の米国関税措置と世界各国の対応政策を分析し、EUVフォトレジスト市場の競争力、地域経済パフォーマンス、サプライチェーン構成への影響を評価する。
EUVフォトレジストは、極端紫外線（EUV）リソグラフィを用いた半導体デバイス製造における重要部品である。EUVリソグラフィは、波長約13.5ナノメートルのEUV光を用いて半導体ウエハー上に極微細構造を形成する先進的半導体製造技術である。フォトレジストはEUV光に曝露されると化学変化を起こす感光性材料であり、ウェハー上に複雑な構造をパターン形成することを可能にします。
2024年、世界のEUVフォトレジスト生産量は約97千ガロンに達し、世界平均市場価格は1ガロンあたり約1800米ドルであった。
世界のEUVフォトレジスト主要メーカーには、TOK、JSR、信越化学工業が含まれる。上位3社で市場の約90％を占める。アジア太平洋地域は世界最大のEUVフォトレジスト市場で、シェアは約82％。次いで北米と欧州が各8％を占める。製品タイプ別では、EUV（化学）が最大セグメントで市場シェア約67％を占める。用途別では、ロジックICが最大のダウンストリームセグメントであり、市場シェア約38％を占める。
世界のEUVフォトレジスト市場は、企業別、地域別（国別）、タイプ別、用途別に戦略的にセグメント化されています。本レポートは、2020年から2031年までの地域別、タイプ別、用途別の売上高、収益、予測に関するデータ駆動型の洞察を通じて、ステークホルダーが新たな機会を活用し、製品戦略を最適化し、競合他社を凌駕することを可能にします。
市場セグメンテーション
企業別：
TOK
JSR
信越化学工業
富士フイルム
住友化学
東進化学
デュポン
ラムリサーチ
タイプ別：（主力セグメント対高利益率イノベーション）
EUV（化学）
EUV（非化学品）
用途別：（中核需要ドライバー対新興機会）
ロジックIC
メモリ
その他
地域別
マクロ地域別分析：市場規模と成長予測
– 北米
– ヨーロッパ
– アジア太平洋
– 南米
– 中東・アフリカ
マイクロローカル市場の詳細分析：戦略的インサイト
– 競争環境：既存プレイヤーの優位性と新興プレイヤー（例：欧州におけるTOK）
– 新興製品トレンド：EUV（化学系）の採用 vs EUV（非化学系）のプレミアム化
– 需要側の動向：中国におけるロジックICの成長 vs 北米におけるメモリの潜在性
– 地域別消費者ニーズ：EUの規制障壁 vs. インドの価格感応度
重点市場：
北米
中国
韓国
日本
（追加地域はクライアントのニーズに基づきカスタマイズ可能です。）
章の構成
第1章：レポート範囲、エグゼクティブサマリー、市場進化シナリオ（短期/中期/長期）。
第2章：EUVフォトレジストの市場規模と成長可能性に関する定量分析（グローバル、地域、国レベル）。
第3章：メーカー間の競争力ベンチマーク（収益、市場シェア、M&A、R&Dの重点分野）。
第4章：タイプ別セグメント分析－ブルーオーシャン市場の発見（例：中国におけるEUV（非化学系））。
第5章：用途別セグメント分析－高成長のダウンストリーム機会（例：インドにおけるメモリ）
第6章：企業別・タイプ別・用途別・顧客別の地域別売上高および収益内訳。
第7章：主要メーカープロファイル – 財務状況、製品ポートフォリオ、戦略的展開。
第8章：市場動向 – 推進要因、抑制要因、規制の影響、リスク軽減戦略。
第9章：実践的な結論と戦略的提言。
本レポートの意義
一般的なグローバル市場レポートとは異なり、本調査はマクロレベルの業界動向とハイパーローカルな運用インテリジェンスを融合。EUVフォトレジストのバリューチェーン全体でデータ駆動型の意思決定を可能にし、以下に対応します：
– 地域別の市場参入リスク／機会
– 現地慣行に基づく製品構成の最適化
– 分散型市場と統合型市場における競合他社の戦略

1 市場概要
1.1 EUVフォトレジストの製品範囲
1.2 EUVフォトレジストのタイプ別分類
1.2.1 タイプ別グローバルEUVフォトレジスト売上高（2020年・2024年・2031年）
1.2.2 EUV（化学系）
1.2.3 EUV（非化学系）
1.3 用途別EUVフォトレジスト
1.3.1 用途別グローバル EUV フォトレジスト売上高比較（2020年、2024年、2031年）
1.3.2 ロジックIC
1.3.3 メモリ
1.3.4 その他
1.4 世界のEUVフォトレジスト市場規模予測（2020-2031年）
1.4.1 世界のEUVフォトレジスト市場規模（金額ベース）の成長率（2020-2031年）
1.4.2 世界のEUVフォトレジスト市場規模（数量ベース）の成長率（2020-2031年）
1.4.3 世界のEUVフォトレジスト価格動向（2020-2031年）
1.5 仮定と制限事項
2 地域別市場規模と展望
2.1 地域別グローバルEUVフォトレジスト市場規模：2020年 VS 2024年 VS 2031年
2.2 地域別グローバルEUVフォトレジスト市場シナリオ（2020-2025）
2.2.1 地域別グローバルEUVフォトレジスト販売市場シェア（2020-2025年）
2.2.2 地域別グローバルEUVフォトレジスト収益市場シェア（2020-2025年）
2.3 地域別グローバルEUVフォトレジスト市場予測と推計（2026-2031年）
2.3.1 地域別グローバルEUVフォトレジスト販売量予測（2026-2031年）
2.3.2 地域別グローバルEUVフォトレジスト収益予測（2026-2031年）
2.4 主要地域および新興市場分析
2.4.1 北米EUVフォトレジスト市場規模と展望（2020-2031年）
2.4.2 中国EUVフォトレジスト市場規模と展望（2020-2031年）
2.4.3 韓国EUVフォトレジスト市場規模と展望（2020-2031年）
2.4.4 日本EUVフォトレジスト市場規模と展望（2020-2031年）
3 タイプ別グローバル市場規模
3.1 タイプ別グローバルEUVフォトレジスト市場の歴史的レビュー（2020-2025年）
3.1.1 タイプ別グローバルEUVフォトレジスト売上高（2020-2025年）
3.1.2 タイプ別グローバルEUVフォトレジスト収益（2020-2025年）
3.1.3 タイプ別グローバルEUVフォトレジスト価格（2020-2025年）
3.2 グローバルEUVフォトレジスト市場：タイプ別予測（2026-2031年）
3.2.1 タイプ別グローバルEUVフォトレジスト販売予測（2026-2031年）
3.2.2 タイプ別グローバルEUVフォトレジスト収益予測（2026-2031年）
3.2.3 タイプ別グローバルEUVフォトレジスト価格予測（2026-2031年）
3.3 各種EUVフォトレジストの代表的なプレイヤー
4 用途別グローバル市場規模
4.1 用途別グローバルEUVフォトレジスト市場の歴史的レビュー（2020-2025年）
4.1.1 用途別グローバルEUVフォトレジスト販売量（2020-2025年）
4.1.2 用途別グローバルEUVフォトレジスト収益（2020-2025年）
4.1.3 用途別グローバルEUVフォトレジスト価格（2020-2025年）
4.2 用途別グローバルEUVフォトレジスト市場予測（2026-2031年）
4.2.1 用途別グローバルEUVフォトレジスト販売予測（2026-2031年）
4.2.2 用途別グローバルEUVフォトレジスト収益予測（2026-2031年）
4.2.3 用途別グローバルEUVフォトレジスト価格予測（2026-2031年）
4.3 EUVフォトレジスト用途における新たな成長源
5 主要企業別競争環境
5.1 主要企業別グローバルEUVフォトレジスト売上高（2020-2025年）
5.2 収益別グローバル主要EUVフォトレジスト企業（2020-2025年）
5.3 企業タイプ別（ティア1、ティア2、ティア3）および2024年時点のEUVフォトレジスト売上高に基づくグローバルEUVフォトレジスト市場シェア
5.4 企業別グローバルEUVフォトレジスト平均価格（2020-2025年）
5.5 世界の主要EUVフォトレジストメーカー、製造拠点及び本社所在地
5.6 世界のEUVフォトレジスト主要メーカー、製品タイプ及び用途
5.7 世界の主要EUVフォトレジストメーカー、業界参入時期
5.8 メーカーの合併・買収、拡張計画
6 地域別分析
6.1 北米市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.1.1 北米EUVフォトレジスト企業別売上高
6.1.1.1 北米EUVフォトレジスト企業別売上高（2020-2025年）
6.1.1.2 北米EUVフォトレジスト企業別収益（2020-2025年）
6.1.2 北米EUVフォトレジストのタイプ別売上高内訳（2020-2025年）
6.1.3 北米EUVフォトレジスト用途別売上高内訳（2020-2025年）
6.1.4 北米EUVフォトレジスト主要顧客
6.1.5 北米市場の動向と機会
6.2 中国市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.2.1 中国EUVフォトレジスト企業別売上高
6.2.1.1 中国EUVフォトレジスト企業別売上高（2020-2025年）
6.2.1.2 中国EUVフォトレジスト企業別収益（2020-2025年）
6.2.2 中国EUVフォトレジストのタイプ別売上高内訳（2020-2025年）
6.2.3 中国EUVフォトレジスト用途別売上高内訳（2020-2025年）
6.2.4 中国EUVフォトレジスト主要顧客
6.2.5 中国市場の動向と機会
6.3 韓国市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.3.1 韓国EUVフォトレジスト企業別売上高
6.3.1.1 韓国EUVフォトレジスト企業別売上高（2020-2025年）
6.3.1.2 韓国EUVフォトレジスト企業別収益（2020-2025年）
6.3.2 韓国EUVフォトレジストのタイプ別売上高内訳（2020-2025年）
6.3.3 韓国EUVフォトレジスト用途別売上高内訳（2020-2025年）
6.3.4 韓国EUVフォトレジスト主要顧客
6.3.5 韓国市場の動向と機会
6.4 日本市場：主要企業、セグメント、下流産業及び主要顧客
6.4.1 日本EUVフォトレジスト企業別売上高
6.4.1.1 日本EUVフォトレジスト企業別売上高（2020-2025年）
6.4.1.2 日本EUVフォトレジスト企業別収益（2020-2025年）
6.4.2 日本EUVフォトレジストのタイプ別売上高内訳（2020-2025年）
6.4.3 日本EUVフォトレジスト用途別売上高内訳（2020-2025年）
6.4.4 日本EUVフォトレジスト主要顧客
6.4.5 日本市場の動向と機会
7 企業概要と主要人物
7.1 TOK
7.1.1 TOK 会社情報
7.1.2 TOKの事業概要
7.1.3 TOK EUVフォトレジストの売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.1.4 TOK EUVフォトレジスト提供製品
7.1.5 TOKの最近の動向
7.2 JSR
7.2.1 JSR 会社情報
7.2.2 JSRの事業概要
7.2.3 JSR EUVフォトレジストの売上高、収益、粗利益率（2020-2025年）
7.2.4 JSR EUVフォトレジスト提供製品
7.2.5 JSRの最近の動向
7.3 信越化学工業
7.3.1 信越化学工業株式会社の情報
7.3.2 信越化学工業の事業概要
7.3.3 信越化学工業のEUVフォトレジスト売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.3.4 信越化学工業のEUVフォトレジスト製品ラインアップ
7.3.5 信越化学工業の最近の動向
7.4 富士フイルム
7.4.1 富士フイルム会社情報
7.4.2 富士フイルムの事業概要
7.4.3 富士フイルムのEUVフォトレジストの売上高、収益、粗利益率（2020-2025年）
7.4.4 富士フイルムが提供するEUVフォトレジスト製品
7.4.5 富士フイルムの最近の動向
7.5 住友化学
7.5.1 住友化学会社情報
7.5.2 住友化学の事業概要
7.5.3 住友化学のEUVフォトレジストの売上高、収益、粗利益率（2020-2025年）
7.5.4 住友化学のEUVフォトレジスト製品ラインアップ
7.5.5 住友化学の最近の動向
7.6 東進セミケム
7.6.1 東進セミケム会社情報
7.6.2 東進セミケム事業概要
7.6.3 東進セミケム EUVフォトレジストの売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.6.4 東進セミケムが提供するEUVフォトレジスト製品
7.6.5 東進セミケム近年の動向
7.7 デュポン
7.7.1 デュポン会社情報
7.7.2 デュポンの事業概要
7.7.3 デュポン EUV フォトレジストの売上高、収益、粗利益率（2020-2025）
7.7.4 デュポンEUVフォトレジスト提供製品
7.7.5 デュポンの最近の動向
7.8 ラムリサーチ
7.8.1 ラムリサーチ会社概要
7.8.2 ラムリサーチ事業概要
7.8.3 ラムリサーチ EUVフォトレジストの売上高、収益及び粗利益率（2020-2025年）
7.8.4 ラムリサーチが提供するEUVフォトレジスト製品
7.8.5 ラムリサーチの最近の動向
8 EUVフォトレジスト製造コスト分析
8.1 EUVフォトレジスト主要原材料分析
8.1.1 主要原材料
8.1.2 原材料の主要供給業者
8.2 製造コスト構成比
8.3 EUVフォトレジストの製造プロセス分析
8.4 EUVフォトレジスト産業チェーン分析
9 マーケティングチャネル、販売代理店および顧客
9.1 販売チャネル
9.2 EUVフォトレジスト販売代理店リスト
9.3 EUVフォトレジスト顧客
10 EUVフォトレジスト市場動向
10.1 EUVフォトレジスト業界の動向
10.2 EUVフォトレジスト市場の推進要因
10.3 EUVフォトレジスト市場の課題
10.4 EUVフォトレジスト市場の抑制要因
11 研究結果と結論
12 付録
12.1 研究方法論
12.1.1 方法論／調査アプローチ
12.1.1.1 研究プログラム／設計
12.1.1.2 市場規模の推定
12.1.1.3 市場細分化とデータ三角測量
12.1.2 データソース
12.1.2.1 二次情報源
12.1.2.2 一次情報源
12.2 著者情報
12.3 免責事項